前世，EUV光刻機的聯合研發成功幾乎逼近當時人類物理學、材料學以及精密制造的極限，除了光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高，別說ASL或Nikon，就算是科技實力世界第一的美國，以一國之力，完全自主制造一臺EUV光刻機，比登天還難。

    EUV光刻機被稱為人類工業皇冠上的明珠！

    湯普森院士團隊雖然沒有研制成功EUV，但研究成果對GcA的光源和光學精密設備的不斷改進貢獻極大。

    由于孫健重生，瀕臨破產倒閉的GcA浴火重生，重回全球光刻機的龍頭企業之一，成為EUVLLc聯盟的重要成員，湯普森院士團隊專門研究EUV光源7年，取得了不少重要技術成果，EUVLLc聯盟研制成功EUV光刻機，肯定不需要15年。

    GcA將成為全球唯一生產EUV光刻機的廠家，AtIc將成為最大的受益者，雖然孫健也樂見其成，但以美國人的性格，極有可能讓AtIc交出GcA的控股權，嚴禁出口EUV到中國，這不是重生者愿意看到的結果。

    前世被美國技術封鎖，舉國之力，孫健穿越前沒有看到國產EUV光刻機的影子。

    經過一年多的努力，bSEc已經研究成功8英寸晶圓、250n制程工藝的光刻機，正在抓緊時間研制180n制程工藝的光刻機。

    制程工藝不斷突破對bSEc來說都是突飛猛進的進步，但同Nikon和GcA相比，還有2代技術差距，沒有大肆宣傳，避免被仇視中國的美國國會議員盯上。

    不到10年時間，從4代技術差距縮短到2代，bSEc的管理層和技術人員都盡力了。

    孫健知道，要是沒有65n制程工藝這道難關擋在光刻機業界的前面，有他出錢出力，bSEc在15年內也很難趕上光刻機技術實力雄厚的GcA和Nikon。

    連李昌杰都不知道，bSEc研究院院長鄧國輝院士和所長錢富強研究員率領光源研究所的140多名研發人員，經過2年半的潛心研究，有孫健不斷「點撥」，終于在去年7月研制成功浸沒式光刻系統技術，ArF激光器發射的193n光源通過純凈水的折射，得到了波長134n的光源，解決了業界遇到的193n波長的世界級難題，還沒有申請公司發明專利，秘而不宣。

    只能委屈錢富強和140多名研發人員了。

    研究員錢富強憑借主持研發成功浸沒式光刻系統技術，攻克這項光刻機光源上的世界級難題，憑借這一世界級的重大科研成果，就能申請工程院院士。

    鄧國輝和錢富強從去年8月開始立項，bSEc投資1億元，帶領光源研究所，靜下心來開始研發EUV。

    作為上市公司，bSEc發布公告，投資1億元繼續研究193n波長的世界級難題。

    即使能得到蔡司公司最先進的透鏡和反射鏡系統，有資金支持，孫健也懷疑bSEc研究院在20年內能否研制成功EUV光刻機？

    停止研究也不可能買到EUV光刻機，20年不行，30年！

    「李總，布羅迪先生，余總已經拿到美國商務部的同意文件，我們明天前往美國，180n制程工藝的半導體生產線的基建要加快進度，增加人手，保證11月底完工。」